離子濺射儀是一種緊湊的臺(tái)式鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電子顯微鏡成像中非導(dǎo)電樣品的高質(zhì)量鍍膜。樣品的干燥和清洗是離子濺射鍍膜的基本要求。如有必要，應(yīng)在交換樣品和陰極位置用火花放電清潔樣品表面，然后在濺射涂層之前恢復(fù)樣品。鐵、鎳、銅和鉛是離子濺射儀器常用的陰極材料。有時(shí)，電硬金、鉑、鈀、銦和其他金屬也可用作陰極材料。氧通常用作離子濺射儀器的反應(yīng)氣體。
離子濺射儀的操作說(shuō)明：
1、一般來(lái)說(shuō)，工作距離是可調(diào)的。距離越近，濺射速度越快，但熱損傷會(huì)增加。
2、通過(guò)控制真空壓力來(lái)實(shí)現(xiàn)離子電流的大小。真空度越低，I值越大，濺射速度越快，原子晶粒越粗，樣品（陽(yáng)極）電子轟擊產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高，I越小，濺射速度越慢，原子晶粒越小，電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量也較小。
3、加速電壓固定可調(diào)。加速電壓越高，樣品的熱損傷越大。通常使用金屬靶的比例面積。
4、對(duì)于一些熱敏樣品，樣品區(qū)域需要冷卻、水冷或珀?duì)栙N冷卻；磁控裝置也可用于像電磁透鏡一樣使電子從樣品中偏轉(zhuǎn)。當(dāng)然，在這種轉(zhuǎn)變之后，它將增加非常高的成本。你可以在蠟面上濺一層金屬而不會(huì)造成任何損壞！
5、真空中雜質(zhì)越多，涂層質(zhì)量越差。一般來(lái)說(shuō)，金相對(duì)穩(wěn)定，空氣可以用作等離子體氣源，而許多其他靶需要惰性氣體。
6、氣體的原子序數(shù)越高，動(dòng)量越大，濺射速度越快，但晶粒越厚，連續(xù)薄膜越厚。
7、保持真空室清潔有利于高質(zhì)量涂層。
8、不要讓機(jī)械真空泵長(zhǎng)時(shí)間保持真空，否則很容易倒油。
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